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回転真空加熱装置

■仕様

回転真空加熱装置は雰囲気を低真空(1Pa程度)にでき上部のハロゲンヒーターにてワークを加熱する製品となります。
テーブル(φ96,SUS)が回転することで均一な加熱が可能になります。テーブルには石英やカーボン受け皿を設置できます。
特⾧は上部のハロゲンヒーターが可動式でワークまでの距離を調整可能。さらに石英チャンバー外面に金コートを採用することで点灯中のワークの状態が確認できます。
又、チャンバー上部の蓋は水冷構造になっており、定格加熱中で表面温度は50℃程度になっております。
当社にて試験機器として保有しております。

■概要図(3レンジタイプ)

炉本体 電気容量 単相 50V-500W 2本
加熱温度 常温~(600℃)
方 式 光加熱(ハロゲンヒーター)
雰囲気 大気・真空(石英チャンバー内)
筐 体 石英チャンバー、SUS(水冷構造)
チャンバー 石英ガラス
炉サイズ φ200×H270
制御操作部 制御盤位置 架台の正面部
温度調整器 デジタル設定、PID制御
温度センサー Kタイプ熱電対(放射温度計取付可能)
安全装置 過電流・漏電ブレーカー
付帯機構 キャスター、アジャスター